电子束曝光技术研究组几十年不断努力和探索，特别是攻克了“图形发生器”和“定位工件台”等关键技术后，为各位从事微、纳米技术研究的专家提供了既具有微、纳米图形分辨率，系统简单又价格低廉的电子束曝光系统。
电子束曝光系统=（DY-2000A）纳米通用图形发生器+SEM
基于DY-2000A纳米通用图形发生器:
其基本结构如下：
1、（DY-2000A）图形发生器+ SEM（扫描电镜）
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特点： 1、DY-2000A图形发生器+SEM组建成电子束曝光系统使用原SEM工作台。 2、无须改动电子显微镜，保留显微镜的全部功能，单场制作各种微纳结构图形和套刻工作 |
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特点： 1、(DY-2000A图形发生器+SEM组建成电子束曝光系统)使用精密光栅工件台 2、无须改动电子显微镜，保留显微镜的全部功能，多场制作各种微纳结构图形拼接和套刻工作
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DY-2000A纳米通用图形发生器的硬件特点：
1. 高精度标记图形数据采集器
2. 先进、快速的SCSI接口
3. 扫描频率大于10 MHZ，传输数率不低于300MB/S。 高速数字信号处理器（DSP）
4. 用于X和Y方向电子束偏转的两套16位高速数模转换和控制系统
5. 12 位高性能，小温漂的ADC图形采集系统，信噪比高。
6. 采用高性能的微处理器，信号处理能力优于30M,支撑高效，高分辨的曝光结果。
7. 采用恒温抗干扰机箱，减少干扰，稳定性大大优于集成设备。
8. 配有5.6寸LED显示屏，可实时、直观的显示曝光进程。
9. 带有匹配的束闸输入接口。
10. 配有适配器，使电镜，能谱，曝光互联和转接互不干扰。
11. 配有22寸液晶显示器和PC图形控制系统一套。束闸控制：点控、线控、区域控制等
五．DY-2000A纳米通用图形发生器的软件功能:
1. 基于Windows中文操作系统的EBL应用软件，具有强大的图形编辑，界面简洁，容易操作，兼具读写及转换及图形导入等功能。
2. 具有远程控制SEM/FIB/STEM的功能。
3. 可实现数据格式为DXF、CIF、ASCII等图形的读入和转换。
4. 具有图像缩放和重叠功能，同时可实现快速图像采集，同步等等。
5. 可实现位移，旋转，增益矫正刻写场，提升曝光结果的分辨率。
6. 具有标记检测和位置修正，用于拼接和套刻对准。
7. 具有曝光、工件台移动和束闸通断等功能控制。
8. 具有点控、线控、区域及非特征图形的控制。
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