您好,欢迎来到仪器批发网 | 免费注册
伯东企业(上海)有限公司
普通会员
浏览量:33800
您当前的位置:产品首页 > 其它净化/清洗/消毒 >产品详情

美国 KRI 射频离子源 RFICP40

  • 详细信息
  • 联系方式

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 40, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.

KRI 射频离子源 RFICP 40 属于大面积射频离子源, 离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量 (Typical flow): 3-10 sccm.

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

适用于集成在小型的真空腔体内.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 40 特性:

1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.

2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.

3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束

4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行

5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用

6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性


KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:

离子源型号

RFICP 40

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>100 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

3-10 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

12.7 cm

直径

13.5 cm

中和器

LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量


伯东KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域:

1. 预清洗

2. 表面改性

3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

4. 溅镀和蒸发镀膜 PC

5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

6. 离子蚀刻 IBE

伯东企业(上海)有限公司

联系方式

联系人:罗先生先生 (市场)

电 话: 86-021-50461322
打电话给我时,请一定说明在仪器批发网看到的,谢谢!

手 机: 需要登录后查看 马上登陆»

供应商其它相关产品更多>>

联系方式

企业认证

伯东企业(上海)有限公司

经营模式:

所在地区:上海 浦东新区

成立时间: 1995年

联系人:罗先生 先生(市场)

机: 登录后查看 马上登陆»  马上注册»

电话:86-021-50461322

在线咨询

内容: