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美国 KRI 考夫曼离子源 KDC40

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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 (栅网离子源) KDC40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.

离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.

加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.


伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数:

 离子源型号

 离子源 KDC 40 

Discharge

DC 热离子

离子束流

>100 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

2-10 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

17.1 cm

直径

9 cm

中和器

灯丝

伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域:

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

5. 离子蚀刻 IBE

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