离子减薄制样技术属于离子束加工范畴。其方法是用高能离子束轰击样品表面、高能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表面原子能量增大至高于该原子逸出功时，便飞离样品，从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋转，使得离子束轰击均匀。
产品描述
GL2011型离子减薄仪由国内顶尖专家精心设计制作，性能稳定，应用广泛，可对金属、非 金属、陶瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固体材料进行精密减薄处理。
产品特点
多功能样品台，兼具离子减薄和离子抛光功能
离子束流自动控制
监视系统采用聚光光源
减薄过程无离子束遮挡
精心设计防污染观察系统
结构紧凑，体积小，精密
设计，防误操作系统
样品洁净，样品信息更为
真实可靠
技术指标
离子束加速电压：连续可调，0~10kV
品为铜时，减薄速度：30μm/小时(铜样品)
不送气时真空度：10-3 Pa
离子束对样品的最小倾角：
7°(普通试样台)， 2°(抛光试样台)
联系方式
联系人：郭先生先生 (经理)
电 话：
86-010-62369061
打电话给我时，请一定说明在仪器批发网看到的，谢谢！
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