PLUTO-30参数 |
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腔体 |
腔体尺寸 |
300W x 280H x 366Dmm |
容量 |
30L |
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电极数量 |
最多可达7层 |
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电极 |
电极间隙 |
48mm |
功率电极尺寸 |
226W x 210D mm |
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接地电极尺寸 |
260W x 210D mm |
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射频系统 |
射频功率和频率 |
300W/13.56MHz |
气体控制 |
MFC控制器 |
标配1个MFC,最多4个MFC控制器 |
系统控制 |
7寸工业触控屏 |
全数字控制,实时显示工作状况,可设定操作权限和各种报警值,可储存工艺方案 |
真空泵系统 |
油泵 |
32m³/h |
功率 |
220V/10A,50Hz,单相,3线 |
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尺寸 |
外形尺寸 |
706W x 804D x 735H mm |
特别装置 需求 |
工艺气体 |
0.25英寸. 气管快接.适用于 15-20psig; |
净化气 |
0.25英寸. 气管快接. 适用于10-100psig |
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CDA |
0.25英寸. 气管快接. 适用于60-90psig |
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排气接口 |
KF40 |
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可选项 |
液体前驱体输送系统 |
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500W/13.56MHz射频系统 |
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37m³/h 干泵 |
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排气洗涤器 |
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油雾消除器 |
特征及优势
专利气体输送系统,提供气体分配均匀性和灵活的气体分配方法
不同工艺模式(RIE、下游等离子体等)的柔性电极配置
独特的射频系统提供卓越的工艺重复性和处理效率
全自动处理能力
图形用户界面支持配方编辑器、配方驱动流程并提供实时流程信息
台式设计需要较小的占地面积
典型应用
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性:预压模粘合;预焊线粘合
增强表面胶体流动性:预成型;预倒装芯片下溢
表面粗糙度和蚀刻
降低表面应力,改善表面粘结性
灰化和表面清洁
Plasma等离子蚀刻(配备RIE配置)
电介质/III-IV材料
纳米涂层(配备液体前体输送装置)
耐水纳米涂层:印刷电路板表面处理
防腐纳米涂层:医疗器械,医疗植入物